El jefe de ASML rechaza las afirmaciones de China sobre EUV y señala una brecha de 8 generaciones
Автор: AsiaDirecto
Загружено: 2026-01-15
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En diciembre de dos mil veinticinco, los medios estatales chinos hicieron una declaración sonora: el país supuestamente había creado su propia instalación de litografía de ultravioleta extremo. Este equipo es de importancia crítica para la producción de microchips modernos y, hasta ese momento, la única empresa en el mundo capaz de fabricarlo era la neerlandesa ASML.
El ruido informativo se elevó de inmediato. En el contexto de sanciones prolongadas, restricciones a la exportación y un bloqueo tecnológico, la afirmación sonó como un desafío. China habría recorrido en apenas unos años un camino que a otros les tomó décadas, y en los titulares comenzaron a aparecer frases sobre un “nuevo Proyecto Manhattan”, solo que en lugar de una bomba nuclear, se hablaba de independencia del silicio.
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