PECVD Working | Plasma Chemical Vapor Deposition system with preheating | Vacuum Furnace
Автор: Normantherm
Загружено: 2021-01-08
Просмотров: 11825
Описание:
It can deposit SiOx, SiNx, amorphous silicon, microcrystalline silicon, Nano silicon, SiC, diamond-like carbon, and other films on the surface of the sheet or similar shape samples, and can deposit p-type and n-type doped films.
To learn more, visit our website: www.normantherm.com
Повторяем попытку...
Доступные форматы для скачивания:
Скачать видео
-
Информация по загрузке: