Китай сделал EUV? Прототип литографии уже тестируют — ASML напряглась

Описание: Китай, похоже, делает самый смелый ход в полупроводниковой гонке: по данным СМИ, прототип собственной EUV-литографической установки уже проходит тестирование. Речь о технологии экстремального ультрафиолета (13,5 нм), которая десятилетиями считалась “закрытым клубом” — и была ключевым преимуществом ASML.

Сообщается, что установка могла быть собрана на базе обратного проектирования и компонентов с вторичного рынка, а масштабы — целый производственный цех, сопоставимый по размерам с современными EUV-системами (включая класс High-NA). Цель амбициозная: в перспективе выйти на выпуск рабочих чипов к 2028 году (или позже — если упереться в оптику, стабильность и интеграцию).

Отдельный интерес — обсуждаемая технология источника EUV: вместо классического LPP (laser-produced plasma) может прорабатываться вариант LDP (laser-induced discharge plasma), который обещает более простую архитектуру и потенциально более низкую стоимость, но на практике требует доводки по качеству излучения и надёжности.

В этом видео разбираем:
— что именно означает “EUV-прототип на тестах”;
— почему EUV — не один блок, а набор сверхсложных подсистем;
— какие узкие места могут остановить проект;
— и что это меняет для рынка ИИ-чипов и санкционной игры.

Пиши в комментариях: веришь, что Китай реально дойдёт до рабочих EUV-чипов к 2028–2030, или это ещё очень долгий путь?

#EUV #литография #полупроводники #чипы #Huawei #Китай #ASML #TSMC #SMIC #технологии #техновости #микроэлектроника #производствочипов #санкции #ИИчипы #нейросети #датацентры #железо #инженерия #наука #геополитикатехнологий #будущеечипов