【世界初】キヤノンの"ハンコ"が390億円のEUVに勝った...ASMLの独占を崩す逆転劇とは
Автор: 世界を動かす日本の技術
Загружено: 2026-03-01
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キヤノンが2026年1月、NIL技術を応用した「IAP平坦化装置」を世界で初めて実用化すると発表しました。
ASMLが世界独占する1台390億円のEUV露光装置に対し、型を押しつける"ハンコ方式"が解決策を持ち込んだのです。
この逆転劇の核心は、EUVが何百億円かけても解決できなかった「平坦化の壁」にあります。
VOICEVOX: 青山龍星
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【主要参考情報・ソース】
キヤノン公式プレスリリース（2026年1月13日） - IAP技術世界初実用化発表・平坦化精度5nm以下
キヤノン公式プレスリリース（2023年10月） - FPA-1200NZ2C量産装置発表・最小線幅14nm
EE Times Japan - IAP技術詳細・ASML CEO発言・業界反応
荏原製作所公式サイト - 半導体平坦化精度業界要求値（300mm・10nm以内）
キヤノン公式テクノロジーインタビュー - NIL開発2004年起源・Molecular Imprints買収経緯
mynavi.jp - ASML EUV出荷台数2024年実績・2026年目標
ASML 2025年Q4決算資料 - EUV売上高116億ユーロ・前年比39%増
SPIE Advanced Lithography and Patterning Conference（2026年2月） - IAP技術詳細発表
産業タイムズ（武石洋明専務取締役インタビュー） - NIL開発進捗・デフェクトコントロール
Credence Research（2024年） - NILシステム市場規模予測（CAGR 9.5%）
Hacker News エンジニアコミュニティ - 海外専門家のNIL技術評価コメント
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