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EUV露光装置の精度は、日本が作っている
Автор: 日本の製造業解説
Загружено: 2025-12-19
Просмотров: 1851
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半導体の最先端を語るとき、
必ず名前が挙がるのが EUV露光装置。
そして、そのメーカーとして知られているのが
ASML です。
しかし、EUV露光装置の本当の価値は
「装置があるかどうか」ではありません。
どこまで正確に制御できるか──
つまり「精度」にあります。
この動画では、
EUV露光装置がなぜ異常な精度を要求されるのか、
そしてその精度を
どの国の、どんな技術が支えているのかを解説します。
EUVは、
・空気を通らず
・レンズが使えず
・すべて反射で制御される
極端な光学条件の世界。
その中核を担うのが
ZEISS の超精密ミラーですが、
鏡だけではEUVは成立しません。
原子レベルの研磨、
巨大装置をナノ単位で制御する精密機構、
真空・汚染を徹底的に管理する材料技術。
こうした表に出にくい技術が、
EUV露光装置の精度を静かに支えています。
「日本は半導体で負けた」と言われることがありますが、
それは戦っている場所が違うだけかもしれません。
派手ではない。
しかし、欠ければ止まる。
この動画では、そんな日本の立ち位置を整理します。
あなたが「日本が強いと思う半導体分野」はどこですか？
材料、装置、加工技術など、ぜひコメントで意見を聞かせてください。
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